압력, 가스 유량, 온도 안정적으로 제어

[테크월드=김경한 기자] ACM 리서치가 최대 100장의 12인치 웨이퍼 배치할 수 있는 건식 공정 애플리케이션 장비 ‘울트라 퍼니스(Ultra Furnace)’를 출시했다.

울트라 퍼니스는 기본적으로 LPCVD(low-pressure chemical vapor deposition)에 높은 성능을 제공하도록 최적화됐으며 동일한 플랫폼을 이용해 산화 공정(oxidation), 어닐링(annealing, 열처리 공정)을 비롯해 ALD 공정에도 적용될 수 있다. 이번 제품 개발은 중국과 한국에 위치한 ACM R&D팀 간의 2년간의 협업 성과로 이뤄졌다.

ACM 리서치의 데이비드 왕(David Wang) CEO는 “기존에 구축된 습식 공정 장비 포트폴리오에 울트라 퍼니스를 추가하고 고객사의 첨단 제품에 필요한 통합 솔루션을 제공함으로써 ACM은 새로운 기회를 더욱 확장해 나가고 있다”고 말했다.

박막 증착 공정은 높은 온도에서 공정 가스들이 서로 반응해 실리콘 웨이퍼 표면에 얇은 산화막 또는 질화막층을 형성하는 공정이다. 울트라 퍼니스 시스템은 최대 100장의 12인치(300mm) 웨이퍼 배치 공정을 진행할 수 있도록 설계됐다. 이 시스템에는 내구성을 향상시키는 하드웨어, 검증된 소프트웨어 기술, 독점적인 제어 시스템·알고리즘이 결합됐다. 이를 통해 신제품 장비는 압력, 가스 유량, 온도를 안정적으로 제어할 수 있다.

율트라 퍼니스 시스템은 기본적으로 LPCVD 공정을 목표로 개발됐지만 몇 가지 구성 요소와 레이아웃만 변경하면 다른 애플리케이션에도 적용할 수 있다. 하드웨어 구성의 약 85%가 그대로 유지되기 때문에 새로운 애플리케이션 적용을 위해 프로그램을 효율적으로 변경할 수 있다. 

ACM 리서치 관계자는 “울트라 퍼니스 공급과 관련해 우선 중국 내 고객을 목표로 하고 이후 한국과 대만으로 확대해 나갈 계획”이라고 밝혔다. ACM은 2020년 초 중국에 있는 주요 로직 제조업체의 제조 팹에 첫 번째 울트라 퍼니스 장비를 공급했다. LPCVD를 대상으로 한 이 장비는 생산 팹에 설치돼 인증을 시작했다.

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