파운드리 공정 연구개발·시설투자 가속화
2019년 발표했던 투자 규모보다 38조 원 증액
[테크월드뉴스=서유덕 기자] 삼성전자가 시스템반도체 투자를 대폭 확대한다고 밝혔다.
삼성전자는 13일 평택캠퍼스에서 열린 ‘K-반도체 벨트 전략 보고대회’에서 향후 2030년까지 시스템반도체 분야에 대한 총 171조 원 규모의 투자 계획을 발표했다.
이는 시스템반도체 리더십 확보를 위해 지난 2019년 4월 발표한 ‘시스템반도체 비전 2030’에서 밝혔던 133조 원의 투자계획에 38조 원이 추가된 것이다. 추가 투자를 통해, 삼성전자는 첨단 파운드리 공정 연구개발과 생산라인 건설에 박차를 가할 계획이다.
또한 삼성전자는 시스템반도체 생태계 육성을 위해 팹리스 대상 IP 호혜 제공, 시제품 생산 지원, 협력사 기술교육 등 다양한 상생 활동을 더욱 확대하고, 소부장 업체는 물론 우수 인재 육성을 위한 학계와의 협력을 더욱 강화해 나갈 예정이다.
특히 파운드리 사업이 커지면 커질수록 국내 팹리스 기업들의 성장 가능성이 커지고, 많은 팹리스 창업이 이뤄지며 전반적인 시스템 반도체 산업의 기술력이 업그레이드되는 부가 효과를 유발한다는 점에서, 삼성전자의 파운드리 사업 확대는 5G, AI, 자율주행 등 국내 미래 산업의 성장을 견인하는 역할을 할 것으로 기대된다.
김기남 삼성전자 부회장은 “지금 대한민국의 반도체 산업은 거대한 분수령 위에 서 있고, 대격변을 겪는 지금이야말로 장기적인 비전과 투자의 밑그림을 그려야 할 때”라며 “우리가 직면한 도전이 크지만 현재를 넘어 미래를 향해 담대히 나아갈 것”이라고 말했다.
한편, 2022년 하반기 완공될 평택 3라인의 클린룸은 축구장 25개 크기의 규모로, 최첨단 기술이 적용된 팹이다. 해당 팹의 모든 공정은 스마트 제어 시스템에 의해 전자동으로 관리되며, EUV 기술이 적용된 14㎚ D램과 5㎚ 로직 제품을 양산한다. 삼성전자는 대규모 반도체 클러스터로서 최첨단 제품을 양산하는 삼성전자 평택캠퍼스의 글로벌 반도체 공급기지로서의 주도적 역할이 더욱 강화될 전망이라고 전했다.
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