[Tech Talk] 노광장비 1등 기업, ASML의 성장 비결은? ③
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[Tech Talk] 노광장비 1등 기업, ASML의 성장 비결은? ③
  • 박지성 기자
  • 승인 2019.09.09 17:15
  • 댓글 0
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초격차 전략은 이미 시작됐다

[테크월드=박지성 기자] (편집자 주: Tech Talk는 IT 콘텐츠를 손쉽게 이해할 수 있도록 테크월드의 기자들이 심층 분석한 내용을 바탕으로 직접 제작한 비디오 콘텐츠입니다)

 

안녕하세요? 테크월드 뉴스의 박지성 기자입니다! 오늘은 Tech Talk ASML의 마지막 편입니다. 지난 시간 2회에 걸쳐, ASML의 과거와 현재를 알아봤다면, 이번에는 ASML의 미래에 대해서 알아보는 시간을 갖도록 하겠습니다.

 

초격차, 국내 굴지의 기업인 삼성전자에서 내부적으로 즐겨 쓰는 단어죠. 삼성전자의 권오현 전 부회장이 저술한 베스트셀러의 제목이기도 한데요. 초격차는 경쟁자들 대비 현재의 우월적 지위를 단순히 지키는데 그치지 않고 아예 도전 의지 자체를 분쇄시키는, 압도적 지위를 구축하겠다는 의미입니다. 그런데 이런 초격차를 추구하고 있는 기업은 비단 삼성전자만이 아닙니다. ASML 역시 노광장비 특히 EUV 시장에서 이런 초격차를 적극적으로 추진하고 있습니다.

ㅇ 성공적으로 점화된 성장엔진, EUV

ASML의 연간 사업보고서를 먼저 보시죠. 최근 3개년 간 ASML은 높은 사업 성과를 달성했는데요. 2016년 47억 1900만 유로였던 매출은 2018년 82억 5900만 유로로 확대됐죠. 3년만에 매출이 약 2배에 달할 정도로 성장한 건데요. 정말 어마어마한 성장세죠. 이 자체도 매우 흥미로운데, 매출 증가분을 각 사업영역별로 나눠 보면 더욱 충격적인 부분이 있죠.

 

월간 전자부품과 테크월드가 직접 수행한 분석을 보면 최근 3년간 늘어난 ASML의 매출액 중 약 44%는 바로 EUV에서 창출된 것으로 파악됐습니다. 2016년까지만 해도 약 7%에 불과했던 EUV 사업부의 매출 비중은 2018년에 무려 23%까지 상승한 거죠. EUV가 이제는 신사업 수준이 아니라 이미 ASML의 강력한 성장동력으로 자리매김하고 있다는 얘기죠.

 

게다가 앞서 알아본 것과 같이 EUV 시장에서 ASML의 점유율은 현재 100%입니다. 100%...따라서 EUV 시장에서 ASML의 지위를 위협할 수 있는 경쟁자의 등장은 중단기적으로 어려울 것으로 보입니다. 그런데, ASML은 이런 현재의 우월적 지위에 만족할 생각이 없어 보입니다. 바로 EUV 시장에서의 초격차를 달성하기 위한 노력들이 이미 진행 중입니다.

 

ㅇ 중단기적 전략 과제, EUV의 생산성을 극대화

EUV 역시 단점이 있죠. 광원의 특성 상 공기 중의 물질을 지나면서 대부분 흡수돼 버린다는 점이죠. 그렇다 보니 기기를 진공 상태 등으로 유지해야 하는 등 이런저런 이유로 기기의 단가가 높을 수 밖에 없죠. 무려 대당 금액이 1500억원에 달합니다.

 

최신예 스텔스 전투기인 F-35의 1대 가격이 900억원인 것을 생각해 보면 정말 어마어마한 금액입니다. 그래서 소위 ‘본전’을 뽑기 위해서는 EUV의 높은 생산성이 담보돼야 하죠. 그래서 현재 ASML은 중단기적으로 이 생산성을 강화하는데 역량을 집중하고 있습니다.

 

우선 NXE3400B의 가동률을 60% 중반에서 90%대로 끌어 올리는데 성공한 상황이고,

 

현재 125인 시간 당 웨이퍼 처리량을 170까지 끌어 올린 NXE:3400C를 2019년 하반기에 출시한다는 계획을 발표했습니다. 더 나아가 ASML은 2021년에는 차세대 모델을 통해 시간당 웨이퍼 생산량을 185 이상으로 끌어올릴 계획입니다. 경쟁사들은 EUV 생산 자체를 시도조차 못하고 있는데, ASML의 제품 업그레이드는 이미 상당한 속도로 진행되고 있는 거죠.

 

ㅇ 장기적으로 High NA를 통한 차세대 패러다임 제시 

 

초격차를 위한 노력은 여기서 그치지 않습니다. 기본적으로 노광장비는 빛을 쬐서 회로 설계도를 그리는 과정이기 때문에 빛의 해상도가 매우 중요하죠. 빛의 해상도가 높을수록 미세한 반도체의 회로도를 보다 선명하게 그릴 수 있기 때문인데요. High-NA, 즉 렌즈 수차는 이런 빛의 굴절률은 줄이고 해상도를 높이는 수준을 말하는데요. 현재 ASML의 EUV 기기들은 0.33 NA를 가지고 있는데, ASML은 이를 2023~2025년 경에는 0.55로 끌어 올린다는 목표를 가지고 있죠. 이미 ASML이 도달한 0.33도 매우 도전적인 목표인데 현재 기술로 0.55 NA를 구현하기는 말처럼 쉽지가 않죠. 그리고 이런 난관 앞에서 ASML의 선제적 투자는 다시 한번 빛을 발하는데요.

 

High-NA를 구현하기 위해선 광학장비인 렌즈의 업그레이드가 필수적인데, 지난 시간에 언급한 것처럼 이미 2016년 관련 역량을 보유한 독일의 자이스(Ziess)사의 지분을 25% 이상 인수해 둔 상황입니다. 뿐만 아니라, ASML은 앞으로도 해당 역량을 확보하기 위해 다양한 형태로 협력사들과 협업을 강화해 나갈 계획이라고 밝혔죠.

 

지난 3회에 걸친 내용을 정리해 보려고 합니다. 자 첫번째, 일단 반도체 생산 단계에 있어 노광의 단계는 엄청나게 중요하다! 그런데, 이 시장을 꽉 쥐고 있는 기업이 있으니 그 기업은 ASML이다. 그런데 이런 ASML의 입지는 그냥 이뤄진 게 아니라 선제적인 기술 개발, 과감한 인수합병, 전폭적인 의사지원 구조라는 3가지의 용기를 통해 만들어진 것이다. 그리고 ASML의 이런 노력들은 앞으로도 더욱 강화될 것이다. 이렇게 정리할 수 있겠네요.

오늘의 Tech Talk는 여기까지입니다. 다음에도 보다 알찬 내용들도 다시 찾아 뵙겠습니다. 감사합니다.