KLA, D32·D8 광학 검사 시스템과 eDR7380 전자빔 리뷰 시스템 출시
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KLA, D32·D8 광학 검사 시스템과 eDR7380 전자빔 리뷰 시스템 출시
  • 이건한 기자
  • 승인 2019.07.11 11:02
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[테크월드=이건한 기자] KLA 코퍼레이션(이하 KLA)가 새로운 광학 결함 검사 시스템과 eDR7380 전자빔 결함 리뷰 시스템을 발표했다.

신규 검사 시스템은 KLA의 주력 제품인 패턴 웨이퍼 플랫폼의 확장으로 광학 검사를 정의하는 요소인 속도와 감도에서 향상이 이뤄졌다. 신규 전자빔 리뷰 시스템은 결함과 결함 소스 사이의 핵심적인 연결을 찾아내는 역량의 강화 면에서 개선이 이뤄졌다. 

자료=KLA 제공
D32와 D8 광학 검사 시스템과 eDR7380 전자빔 리뷰 시스템 (자료=KLA 제공)

KLA 글로벌 제품 그룹 수석 부사장 아마드 칸(Ahmad Khan)은 “차세대 메모리와 로직 반도체 칩 제조에서 수익을 내기 위해서는 정밀한 공정 관리가 필요하며, 디바이스 구조는 더 작아지고, 좁아지며, 높아지고, 깊어진 한층 복잡한 모양과 새로운 물질로 구성된다"며, "허용 가능한 물리적인 변동과 결함 (신호-잡음)을 구분해 내는 것이 매우 어려운 문제가 되고 있다"고 말했다.

이에 D32·D8 광학 패턴 웨이퍼 결함 검사 시스템은 광대역 플라즈마 조명 기술과 센서 아키텍처, 반도체 칩 설계 정보 통합을 통해 감도, 처리량, 수율에 유의미한 결함 분류를 수행한다. 그 결과 결함을 빠르게 찾아내며, 수율 학습을 가속하고 포괄적인 인라인 모니터링이 가능해진다. D32와 D8 시스템은 다른 파장 대역을 이용해 EUV 리소그래피 품질 관리를 포함하여, 얕은 트렌치 분리(STI)에서 금속 배선까지의 모든 레이어(layer)에 대한 검사 애플리케이션을 포함한다. 

파레토(Pareto) 분석을 수행하는 eDR7380 전자빔 웨이퍼 결함 리뷰 시스템은 개발 단계에서 보다 빠르게 결함 원인을 찾을 수 있도록 지원하며, 정확하고 실행가능한 데이터를 제공한다. 이 시스템은 취약한 EUV 리소그래피 공정 레이어의 리뷰를 지원한다. KLA 검사기에 차별화된 방법으로 연결함으로써 
결과 도출 시간을 단축한다. 또한 KLA 특화 애플리케이션에 광범위하게 적용 가능하며 스마트 샘플링과 결함 데이터의 효율적인 교환을 통해 검사 감도를 개선한다. 

아울러 D32, D8, eDR7380 시스템은 신규 시스템, 또는 이전 세대 D30, D7, eDR7xxx 시스템에서 업그레이드를 통해서도 이용이 가능하다. 이 시스템들은 팹(Fab)의 투자 효율성을 높여 주기 위해 향후 업그레이드가 가능하도록 설계됐다.