[테크월드=이나리 기자] 산업용 특수 화학물과 첨단 소재 솔루션 기업 인테그리스가 한국의 메모리 반도체 호황에 따라 2017년 실적 향상을 이뤄냈다. 올해도 한국 시장에서 반도체 투자가 지속될 것으로 예상되는 가운데 인테그리스는 반도체 소재 오염도를 제거하는 최첨단 솔루션을 공급한다는 전략이다.
인테그리스가 1월 30일 개최한 기자간담회에서 발표한 국내 사업 성과에 따르면, 글로벌 매출은2016년 12억 달러를 달성했고, 2017년은 아직 실적 결과가 나오지 않았지만 13억 달러를 기록할 것으로 예상한다고 밝혔다. 인테그리스의 전체 매출 중 반도체가 차지하는 비중은 77%이기 때문에 아시아 지역이 많은 비중을 차지하고 있다. 특히 한국은 메모리 반도체 수요 증가로 인해 2017년 매출이 40% 성장하면서 여러 지역 중 가장 높은 실적을 기록했다.
인테그리스는 한국에 2개의 공장을 보유하고 있는데, 원주 공장은 2017년 50% 매출 성장했고, 30%의 고용이 창출됐으며, 올해도 10% 매출 성장을 기대하고 있다고 밝혔다. 또 2014년 설립된 장안 신규 공장도 마찬가지로 2017년 30%의 직원 수가 증가했고, 올해도 30% 이상 증가 계획을 갖고 있다. 특히 아시아 지역에서 반도체의 70% 수요가 이뤄지고 있는 만큼, 두 공장을 아시아의 생산기지로 자리매김하겠다는 목표를 내비쳤다.
이를 위해 인테그리스는 삼성전자와 SK하이닉스 등이 집중하고 있는 최첨단 기술인 3D 낸드(NAND) 등의 첨단 노드를 지원하기 위해 최근 PSS(Particle Sizing Systems, LLC.)를 3700만 달러에 인수했다.
홍완철 인테그리스 코리아 사장은 “반도체는 검사장비 만으로 순도를 높이고 수율을 높이는 데 한계에 봉착하면서 인텔, 삼성, TSMC 등 반도체 기업들은 소재를 제조하는 단계부터 원천 선행 예방 오염제거 기술을 적용하고 있다. 반도체 원료의 원자재에 정재 기술을 적용시키고, 이를 원료로 제조하고, 중앙 공급 장치를 통해 설비까지 공급되는 등 10년 전에 비해 과정이 늘어나 총 5단계에 걸쳐 이뤄지고 있다”며 “즉, 이제는 예방, 선행, 보험이란 관점에서 소재 오염도를 제거하는 방향으로 기술이 발전하고 있다”고 설명했다.
이에 따라 인테그리스는 로직, D램(DRAM), 3D 낸드 디바이스 제조용 ArF, KrF, EUV(Extreme Ultraviolet) 노광장비 애플리케이션의 특정 오염을 제어하는 기술인 옥토레스(Oktolex) 멤브레인 기술을 한국에 처음으로 공개했다. 참고로, EUV 노광장비는 반도체 공정 미세화가 진행되는 속도와 공급량 향상에 큰 역할을 할 것으로 기대되면서 지난해부터 삼성전자가 여러 대를 구입하며 주목 받은 장비다.
옥토레스의 멤브레인은 각 화학 물질의 요구에 맞게 각 멤브레인 유형들이 저마다 보유한 고유의 메커니즘을 강화해 중요한 광화학적 오염 물질을 제거할 수 있는 기술이다. 또 옥토레스 기술은 현재 인테그리스 임팩트 8G POU(Point-Of-Use) 광화학 필터로 이용할 수 있다.
회사 측에 따르면 옥토레스 멤브레인 기술은 해외에 이미 공급됐으며, 한국에서도 곧 적용될 예정이다. 또 현재 인테그리스는 EUV 장비 관련해 10개의 솔루션을 보유하고 있다고 답했다. 예로 2015년부터 개발을 시작한 EUV용 레티클 팟(Pod) 장비, 노광장비에 들어가는 불순물을 걸러내는 장비인 가스정제시스템(GPS) 등을 삼성전자와 SK하이닉스에게 공급하고 있다.
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