첨단 반도체 수요의 급증에 대응하기 위한 생산 증가

[테크월드뉴스=박규찬 기자] 인텔은 미국 오하이오주 리킹 카운티에 2개의 새로운 최첨단 반도체 공장을 건설하기 위해 200억 달러(약 27조 원) 이상의 초기 투자를 실시하는 최종 계획을 지난 9월 29일(현지 시간)에 발표했다고 4일 밝혔다.

이미 공사가 시작된 인텔 오하이오 신공장의 건설 현장 [사진=인텔]
이미 공사가 시작된 인텔 오하이오 신공장의 건설 현장 [사진=인텔]

인텔에 따르면 이번 투자는 첨단 반도체 수요의 급증에 대응하기 위한 것으로 인텔의 차세대 혁신 제품을 강화하고 인텔 IDM 2.0 전략의 일환으로 파운드리 고객의 필요에 부응하기 위해서다.

오하이오 주 역사상 최대의 단독 민간 투자가 되는 이 프로젝트의 초기 단계에서는 건설 기간 중에 인텔의 직접 고용이 3000명, 건설 현장에서의 고용이 7000명 창출될 것으로 예상되며 공급자와 파트너의 폭넓은 에코시스템을 위해 수만 명의 장기 고용이 현지에서 이어질 것으로 기대되고 있다.

인텔의 오하이오 신공장의 완성 예상도. 앞이 오피스동으로 안쪽의 회색 건물이 제조동이다. [사진=인텔]
인텔의 오하이오 신공장의 완성 예상도. 앞이 오피스동으로 안쪽의 회색 건물이 제조동이다. [사진=인텔]

한편 인텔은 이 새로운 공장의 건설 지원 및 지역 교육 기관과의 파트너십을 위해 추가로 1억 달러(약 1350억 원)를 기부할 계획이며 이를 통해 이 지역의 인력 공급망을 구축하고 연구 프로그램 강화를 도모해 나갈 계획이다.

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