제덱스, 이물·파티클 관리 TCM·TCC 세미나 26일 개최

제덱스가 오는 26일 이물 및 파티클(Particle 아주 작은 입자, 이물질) 관리 세미나인 ‘제1회 TCM·TCC 세미나’를 개최한다.

이 세미나는 종전 제덱스에서 전자관련 산업 업계에 출강형태로 3일간 진행하던 교육과정을 1일로 압축하여 진행하는 과정으로 김진호 대표이사가 창안한 TCM과 TCC의 개념의 정립 동기와 이물·파티클의 제거를 통한 제품의 불량감소를 위한 적용절차 및 방법을 다룬다.

또 아직 국내에서는 생소한 개념인 표면청정도(Surface Cleanliness)의 관리를 통한 제품 수율의 향상, 방진복 등 청정용품의 올바른 선정 방법과 관리, 정전기와 이물·파티클 관리 등 크린룸 관리를 위한 전반적인 사항 중 그 동안 국내의 공개된 세미나 등에서 거의 다루어지지 않았던 내용을 위주로 진행된다.

이번 세미나는 제덱스의 창업자인 김진호 대표이사가 직접 강사로 나선다.

제덱스는 반도체 CVD, ETCH 장치의 샤워 헤드(Shower Head) 등 홀(Hol)e 형성 부품의 홀 부분 입자를 검사하고 크리닝 하는 설비를 지난 2014년에 개발하여 관련업계에 공급하고 있고 반도체, 디스플레이 산업 등 첨단산업에 요구되는 방진의류 및 청정용품의 평가장치를 개발하여 국내 반도체 소자 업체 및 관련업계에 공급해 왔다.

이외에도 오염 제어 관련 컨설팅 및 현장지도, 크린룸의 유지보수 및 관리, 평가 등 종합서비스를 제공하고 있고 국내 독립적인 파티클 랩(Particle Lab) 서비스를 제공하는 기업이다.