[SEZ], FEOL 클리닝 프로그램 부사장에 업계 최고 전문가 글렌 게일 선임 반도체 산업용 싱글 웨이퍼 습식 기술 개발업체인 SEZ는 FEOL(Front-end-of-line) 클리닝 프로그램의 부사장에 글렌 게일 박사(Glenn Gale, Ph.D.)가 임명되었다고 오늘 밝혔다. 이로써 게일 박사는 SEZ의 해외 FEOL 세정 공정관리 업무를 맡을 예정이며, 전세계 고객 기반 내에서 우선 시급히 요구되는 65 및 45nm 기술 위주로 자사의 FEOL 세정 솔루션 소개 및 구현에 관련된 모든 일을 총괄하게 된다. 게일은 첨단 공정관리 사업부(Advanced Process Management)의 공정 애플리케이션을 담당하고 있는 에른스트 골호퍼(Ernst Gaulhofer) 수석 부사장에게 직접 보고하는 형태로 일을 처리해 나갈 계획이다. 반도체 표면처리 및 클리닝 기술 분야의 세계적인 권위자인 게일 박사는 최근까지 도쿄일렉트론아메리카의 세정 시스템 사업부에서 수석 테크놀로지스트로 재직했었다. 그 이전에는 인터내셔널 세마텍(SEMATECH)의 프런트엔드 공정 사업부에서 표면처리 담당 프로젝트 매니저로 재직한 바 있다. 게일은 세마텍에서 ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors) 표면처리 섹션 개발에 있어 매우 중요한 역할을 담당하기도 했다. 이는 IBM(International Business Machines)보다 10년이나 먼저 앞선 것으로, 습식 화학 스프레이 및 풀플로우(full-flow) 공정 분야의 제조장비 엔지니어이자 실리콘 웨이퍼 세정 및 식각 분야의 제조 공정 엔지니어로는 처음 있는 일이었다. 게일 박사는 뉴욕 포츠담의 클락슨 대학에서 기계산업공학을 전공, 학사 및 석사학위를 받았다. 아울러 동교에서 항공기계공학을 전공하고 화학을 부전공하여 관련 박사학위를 취득했다. 게일 박사는 이 밖에도 다수의 훈장 수상 경력이 있으며, 12개가 넘는 미국 특허를 보유하고 있어 많은 발표기회를 갖기도 했다. SEZ 그룹의 커트 라켄부처(Kurt Lackenbucher) COO 겸 수석 부사장은 “전세계 고객들에게 지속적으로 최첨단 세정 솔루션을 제공하기 위해서 표면 처리 업계의 최고일인자를 영입하기로 결정했다”며 “글렌 박사는 업계를 위한 많은 업적을 달성했을 뿐만 아니라 관련 분야에 있어 세계적인 권위자로 명성이 높은 인물이다. 동시에 SEZ는 직원 고용 시 전략적으로나 경영적인 측면에서 리더십을 유지할 수 있도록 신중하게 결정을 내린다. 이러한 SEZ의 고용철학을 통해 선임된 게일 박사는 SEZ의 싱글웨이퍼 FEOL 세정 사업의 전략을 이끌어 나가는데 있어 적임자라고 판단된다”고 영입 배경에 대해 설명했다. 고객과의 긴밀한 협력을 통해서 SEZ는 FEOL 애플리케이션에 대한 고객들의 요구사항을 충족시킴과 동시에 싱글웨이퍼 습식 기술과 관련된 모든 중요한 이점을 제공할 수 있는 유연한 공정 기술 개발의 필요성을 느끼게 되었다. 즉, 사이클 타임 단축, 공정용 화학제의 보다 경제적인 사용법과 소유비용 향상이 여기에 해당된다. SEZ는 업계가 BEOL(back-end-of-line) 공정과 관련해 뱃치(batch) 기술에서 싱글웨이퍼 공정으로 전환하는데 주도적인 역할을 해 왔다. 이와 함께 최근에는 FEOL 분야에서도 이와 비슷한 움직임이 일어나고 있다. 현재 모든 기술 노드에서 그러하나, 고객들의 수요가 가장 많은 65 및 45nm 디바이스 세대를 시작으로 움직임이 가장 활발하다.
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