딥엑스, AI 반도체 원천기술로 CES 혁신상 3개 부문 석권

[테크월드뉴스=박규찬 기자] 딥엑스가 독자 개발한 AI 반도체 원천 기술로 주력 분야인 컴퓨터 하드웨어, 임베디드 기술, 로봇 등 3개 부문에서 ‘CES 혁신상’을 수상하며 세계적으로 혁신적인 기술로 인정받았다고 15일 밝혔다.

매년 미국소비자기술협회(CTA : The Consumer Technology Association)가 주관하는 CES 혁신상은 업계 전문가 심사위원단이 기술과 기능, 디자인, 기술의 독창성이나 혁신성, 인류의 시급한 문제에 도움이 되는 기술 여부 등을 평가해 수여한다.

이번에 수상한 딥엑스의 제품과 기술은 CTA를 통해 국제 파트너 발굴, 투자 유치 등 비즈니스 측면에서 다양한 지원을 받을 수 있게 된다.

딥엑스의 3개 부문 혁신상 수상은 전 세계 AI 반도체 기업 중 최초의 성과로 두 가지 의미가 있다.

첫째 국내 기술이 최첨단 원천 기술 분야에서 처음으로 세계 시장을 선도하게 된 점이다. AI 반도체는 최첨단 신기술을 넘어 전략 자산이 되면서 글로벌 기업을 포함한 100개 이상의 기업들이 뜨거운 각축전을 벌이고 있는 분야다. 이번 딥엑스의 수상은 국내 기업이 세계 시장에서 주목받는 기술을 개발했다는 점에서 큰 의미를 갖는다.

둘째 최첨단 시스템 반도체 분야에서 세계 시장을 선도하는 혁신 기술을 국내 기업이 개발했다는 것이다. 그간 국내 반도체 기술이 메모리 기술로 세계 시장을 선도해 왔지만 시스템 반도체 기술에서는 이렇다 할 세계적인 혁신 기술로 돋보인 유례가 없었다. 국내 산업의 오랜 숙원인 최첨단 시스템 반도체 분야에서도 세계적인 혁신 기술을 선보이며 세계 시장에서 주도적인 역할을 할 수 있는 가능성이 열렸다.

딥엑스가 수상한 3개의 CES 혁신상은 ▲‘올인포 AI 토털 솔루션’ ▲DX-H1 ▲DX-M1 모듈 등이다.

이번 수상은 딥엑스가 보유한 초격차 원천 기술이 근간이 된 것으로 전 세계 AI 반도체 기업 중 유일하게 다양한 AI 응용 분야에 최적화된 4개 제품으로 구성된 올인포 AI 토털 솔루션이 대표적이다.

아울러 AI 기술 구현 비용을 최소화하기 위해 온칩 S램과 오프칩 D램 사용 요구량을 최소화하는 기술, 다양한 AI 응용 개발을 위해 4개의 AI 반도체 제품을 단일화해 지원할 수 있는 딥엑스 소프트웨어 개발 환경(DXNN) 기술이 있다.

또한 딥엑스는 현재 AI 반도체 원천기술 개발과 최첨단 기술의 초기 시장 장악을 위해 미국, 중국, 한국을 중심으로 엣지 AI 반도체 개발 기업으로는 세계 최다인 200개 이상의 원천 기술 특허를 출원하고 있다.

딥엑스 김녹원 대표는 “스타트업으로써 AI 반도체 초격차 원천 기술을 확보하기 위해 개발 기간 동안 엄청난 중압감과 인고의 노력이 필요했다”며 “원천기술개발 기업이 개발한 첫 제품으로 CES 혁신상을 3개나 받은 것은 단 한 번 주어지는 최고 신인상과 같은 영광이라고 생각한다. 이는 딥엑스의 모든 구성원에게 특별한 의미가 될 것이다”고 말했다.

이어 그는 “딥엑스는 끊임없이 신기술 개발을 지속해 ‘딥엑스’하면 ‘세계 최고의 원천 기술 기업’이란 수식어가 떠오를 수 있도록 앞으로도 끊임없이 도전하겠다”고 소감을 밝혔다.

딥엑스는 이번 수상을 통해 딥엑스의 AI 반도체가 전 세계에서 가장 혁신적인 AI 반도체로 독보적인 위상을 차지하는 계기가 될 것으로 예상된다.

한편 이번에 수상한 원천 기술과 제품들은 CES 2024가 열리는 2024년 1월 9일에서 1월 12일 미국 라스베이거스에서 미래를 이끌 혁신적인 기술로써 만나볼 수 있다.