프랙틸리아 오버레이 패키지는 피처들 간 SEM 오버레이를 분석하고 오버레이 분포, 웨이퍼 간 변형 등을 계산한다. [출처=프랙틸리아]
프랙틸리아 오버레이 패키지는 피처들 간 SEM 오버레이를 분석하고 오버레이 분포, 웨이퍼 간 변형 등을 계산한다. [출처=프랙틸리아]

[테크월드뉴스=박예송 기자] 반도체 기업 프랙틸리아(Fractilia)가 프랙틸리아 오버레이 패키지(Fractilia Overlay Package)를 제공한다고 6월 26일 밝혔다.

프랙틸리아 오버레이 패키지는 프랙틸리아의 MetroLER™ 및 FAME™ 제품에 핵심적인 오버레이 측정 및 분석 기능을 새롭게 추가하는 옵션 제품이다.

MetroLER™와 FAME™은 프랙틸리아의 FILM™(Fractilia Inverse Linescan Model) 기술에 컴퓨터 분석 기술을 결합한 것으로 첨단 노드에서 패터닝 오류의 원인으로 지목되는 모든 주요 스토캐스틱 효과를 정확하고 정밀하게 측정할 수 있는 팹 솔루션을 제공한다.

반도체 칩 제조사들은 자신들의 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope, SEM) 기반 오버레이 데이터 분석에 새로운 프랙틸리아 오버레이 패키지를 활용하기 위해 프랙틸리아와 협력하고 있다.

프랙틸리아의 FAME 솔루션 포트폴리오는 고유의 물리학 기반 SEM 모델링 및 데이터 분석 접근법을 사용했다. SEM 이미지로부터 시스템 차원의 임의적 오차를 분석 및 제거하고 이미지 상에 보이는 것이 아니라 실제 웨이퍼 상에 일어나고 있는 것을 정확히 측정하도록 한다.

프랙틸리아의 크리스 맥(Chris Mack) CTO는 “프랙틸리아는 우리의 입증된 FILM 기술을 통해 SEM 노이즈를 분석 및 제거하는 데 있어서 독보적인 입지를 갖추고 있으며 그 결과 많은 고객들이 우리의 기술을 활용해 자신들의 SEM 오버레이 분석 정확도를 향상시키기 위해서 프랙틸리아를 찾고 있다"며 "프랙틸리아 오버레이 패키지를 통해 SEM 스토캐스틱 분석과 광학 오버레이 분석을 결합하면 SEM 오버레이 분석 정확도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 더 나은 랏 배치(Lot dispositioning) 및 보정값을 구할 수 있어, 궁극적으로 패터닝 제어를 향상시키고 스토캐스틱 변이를 낮출 수 있을 것으로 확신한다”고 말했다.

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