화웨이, 반도체 독립 위해 ‘EUV 특허’ 출원…자국내 에코시스템 강화

[테크월드뉴스=노태민 기자] 중국 통신 장비 기업 화웨이가 반도체 미세공정에 필수적인 극자외선(EUV) 장비 개발에 나선 것으로 알려졌다.

27일 중국 IT 전문매체 마이드라이버스에 따르면 최근 화웨이는 EUV 노광공정 관련 기술 특허를 신청했다. 화웨이가 신청한 특허는 13.5나노미터(nm) EUV 광원과 반사경, 리소그래피 시스템 등이다. 특허 출원 번호는 202110524685X다.

화웨이가 출원한 특허는 EUV 장비에 사용되는 광원의 광도 불균일 문제를 해결하기 위해 고안된 것으로 ASML EUV 관련 특허와는 특허권의 범위가 다르다.

화웨이가 EUV 장비 개발에 나선 것은 미국 정부의 반도체 장비 수출 제재에서 벗어나기 위함이다. 미국 정부는 중국의 반도체 굴기를 견제하기 위해 ASML, 어플라이드머티어리얼즈, 램 리서치 등의 반도체 장비 제조 기업에 EUV 장비뿐 아니라 14nm 이하 제조에 사용되는 미세공정용 반도체 장비 수출 제한을 요청한 상황이다.

이러한 상황에서 화웨이는 중국 반도체 궐기의 일익을 담당하기 위해 노광 장비 개발에 나선 것으로 보인다. 화웨이는 지난 2020년 노광 장비 관련 기술 엔지니어 채용을 위해 구직 광고를 올린 바 있으며, 지난 2021년에는 자회사 허블 테크놀로지 인베스트먼트를 통해 노광장비 회사 알에스레이저(RSLASER)에 8200만 위안(149억 2500만 원)을 투자하기도 했다.

알에스레이저뿐 아니라 화웨이는 자국 내 반도체 에코시스템 구축을 위해 파운드리, 외주·조립 테스트(Outsourced Semiconductor Assembly and Test), EDA, 소·부·장 기업들에 투자를 진행해 왔다.

업계에서는 화웨이의 EUV 장비 개발이 순탄치 않을 것으로 전망한다. 대만 IT 전문매체는 디지타임즈는 “화웨이가 EUV 관련 특허를 출원했지만, EUV 장비 생산은 전혀 다른 문제다”라며 “EUV 장비 생산에는 10만 개 이상의 부품이 사용되는데 화웨이가 이러한 밸류체인 확보에 어려움을 겪을 것이다”라고 밝혔다.

이어 “TSMC, 삼성, 인텔 등이 사용하는 ASML의 EUV 장비 개발도 17년이 걸렸다”라고 강조했다.

국내 업계관계자의 의견도 동일하다. “현재 중국의 반도체 장비 제조 기술이 비약적인 발전을 이루긴 했지만, 가장 난이도가 높은 노광 장비의 경우 빠른 시일 내에 제조가 어려울 것이다”라며 “특히 중요 부품 자국 내 생산에는 많은 자본과 시간이 소모될 수밖에 없다”며 지적했다.