KIST, 간편한 화학 공정으로 그래핀 양자점의 헤테로 원자 결합구조 정밀 제어
후처리 공정 없는 공정으로 제조 시간·비용 절감… 비금속계 촉매소재 등 응용 분야에 적용 가능
[테크월드뉴스=서유덕 기자] 한국과학기술연구원(KIST)은 기능성복합소재연구센터 문병준 박사, 배수강 박사 연구팀이 간단한 화학 반응 제어를 통해 0차원 탄소나노소재(분말 입자 형태 소재)인 그래핀 양자점의 단일 헤테로 원자(탄소와 수소가 아닌 원자)의 결합구조를 정밀하게 제어할 수 있는 기술을 개발하고, 이와 관련한 화학반응 메커니즘을 규명했다고 14일 밝혔다.

탄소 원자가 서로 육각형 형태로 연결된 벌집 모양의 평면 구조 소재를 그래핀이라고 부르는데, 이를 수 나노미터(㎚) 크기로 줄일 경우, 형광·반도체 특성을 보이는 그래핀 양자점을 구현할 수 있다. 그래핀 양자점은 단일 소재만으로도 디스플레이, 태양전지, 이차전지, 바이오 이미징, 조명, 광촉매, 센서 등 다양한 분야에 활용 가능하다.
최근 탄소구조체 내 질소, 황, 인 등 헤테로 원자의 함량을 조절함으로써 소재의 광·전기적 특성과 촉매 특성을 향상시킬 수 있는 연구 성과가 잇달아 발표됨으로써 관심이 증가하고 있는데, 이들 연구는 대체로 그래핀 양자점에 포함된 헤테로 원자를 조절하기 위해 양자점을 합성한 후, 헤테로 원자가 포함된 첨가제를 추가해 후처리 공정을 진행하거나, 그래핀 양자점 합성 시 주재료인 저분자 유기 전구체(선행 물질)와 헤테로 원자가 함께 포함된 첨가제를 추가해 합성을 진행했다. 그러나 이 같은 방식들은 합성된 그래핀 양자점의 결정성이 저하되거나 추가적인 정제 공정을 거치면서 반응 수율이 떨어진다는 단점을 가지고 있다. 또한 생산자가 원하는 화학 조성을 가지는 양자점을 얻기 위해서는 첨가제의 함량을 포함한 다양한 합성 조건들의 최적화 작업을 진행해야 하므로 공정시간과 제조단가의 상승이 불가피하다.
그래핀 양자점을 합성하기 위해 산성용액이나 산성을 띠는 전구체를 사용하기 때문에 중화와 정제 과정을 거쳐야 했던 기존 공정과 달리, 이번에 KIST 연구진이 개발한 공정은 전구체가 약알칼리성을 띠고 있으며 합성 이후에는 중성을 띠므로 후처리 공정 없이 바로 활용할 수 있는 장점이 있다.
![[그림 1] 합성된 그래핀 양자점의 표면을 관찰한 투과전자현미경(TEM)과 제한시야 전자회절(SAED) 패턴 이미지. 평균 나노소재 크기는 4㎚ 정도이며, 내부 격자 (1120) 간격은 0.24㎚로 확인된다](https://cdn.epnc.co.kr/news/photo/202110/215631_215843_4820.png)
연구팀은 또한 계산화학 기반 컴퓨터 모델링을 통해 그래핀 양자점 합성 공정에 사용되는 용매가 헤테로 원자(질소)를 함유하고 있는 유기 전구체인 푸말로니트릴(fumaronitrile) 소재의 산화 정도에 영향을 미치고, 이는 궁극적으로 용매의 종류에 따라 최종 산물인 그래핀 양자점의 화학 조성비가 달라지는 결과로 이어지게 됨을 밝혔다. 또한, 합성 공정에 사용되는 용매의 종류에 따른 유기 전구체의 이론적 산화 에너지값을 통해 그래핀 양자점의 대략적인 화학조성 성분비를 예측할 수 있음을 실험적으로 교차 증명했다.
![[그림 2] 그래핀 양자점의 화학적 조성 차이를 보여주는 X선 광전자 분광법(XPS) 측정 결과. 제조할 때 사용되는 용매의 종류에 따라 유기전구체의 니트릴 그룹의 산화 정도에 차이를 보이게 되고, 이는 궁극적으로 최종 산물인 그래핀 양자점의 화학 조성비에 영향을 끼치게 되었음을 확인할 수 있다](https://cdn.epnc.co.kr/news/photo/202110/215631_215844_4835.png)
KIST의 배수강 박사는 “이번 성과는 유기 전구체인 푸말로니트릴 이외에 다른 첨가제를 활용하지 않는 단일 합성 공정으로도 이종원소의 화학 조성을 선택적으로 조절해 그래핀 양자점을 합성할 수 있는 새로운 플랫폼 기술”이며, “그래핀 양자점 소재를 추가적인 후처리·정제 공정 없이 간편하게 대량 제조할 수 있어 공정시간이 단축되고 경제성을 크게 높일 수 있다”고 의의를 전했다.
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