→ 1000분의 1 크기의 나노미터 EUV 공정기술로

[테크월드=박진희 기자] 아남반도체가 회로선폭이 0.18㎛ 비메모리급 반도체를 양산할 수 있는 공정기술을 개발했다. 이 기술은 미국의 TI사와 공동으로 개발착수하여, 0.18㎛급 CMOS 로직 공정기술 개발에 성공한 것이다. 아남반도체측은 기술제휴처인 TI에서 품질인증을 받은 다음 3월부터 연 10만장 규모로 생산할 계획에 있다고 밝혔다. 총 230억원의 투자비를 들여 개발한 이 기술은 회로선폭이 0.18㎛짜리 비메모리 반도체를 양산하는 데 필요한 공정으로 멀티미디어 핵심 신호처리 반도체인 디지털 시그널 프로세서(DSP) 등에 사용할 수 있다.

- 전자부품 1999년 02월 NEWS DIGEST 中

전자부품 1999년 02월 NEWS DIGEST

아남반도체는 1956년 아남산업으로 시작해 아남그룹의 모기업으로 반도체 사업을 시작했다. 1998년 상호를 아남반도체로 변경했고, 2002년 11월 동부그룹으로 편입됐다. 2004년 12월 동부전자와 아남반도체가 합병 후 동부아남반도체가 됐다가 2006년 상호를 바꿔 동부일렉트로닉스가 됐다. 이듬해 동부한농과의 합병으로 동부하이텍으로 변경해 국내 대표적인 파운드리 사업 기업으로 남아있다.

20년전 1999년, 아남반도체가 회로선 폭이 0.18 마이크로미터인 비메모리급 반도체 공정기술을 개발했다는 소식이 자사 전자부품 뉴스에 실렸다. 20년이 흐른 지금은 EUV(노광 장비)를 이용한 7나노 공정 경쟁의 장이 열렸다. 20년전 마이크로미터 보다 1000배가 작은 나노미터가 등장한 것이다.

나노미터 기술은 EUV란 설비를 필수적으로 갖춰야 한다. EUV란 반도체의 재료인 웨이퍼에 빛을 쏘아 반도체 회로를 형성시키는 설비다. 현재 네덜란드 반도체 장비 회사인 ASML에서 유일하게 생산한다. 1대당 단가가 1500억∼2000억원에 이를 만큼 고가 장비다. 국내에서는 삼성전자가 7나노 공정을 확보해 대형 고객사를 끌어들이는 데 주력하고 있다.

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