2017년 반도체 기업 자본지출 1위 삼성…2위 인텔

[테크월드=이나리 기자] 2016년 D램(DRAM) 시장 약세로 자본지출(CAPEX)을 두 자릿수로 삭감했던 삼성전자와 SK하이닉스가 올해는 3D낸드(NAND) 기술을 강화하면서 지출을 대폭 늘릴 것으로 전망된다. 특히 삼성전자는 지난해에 이어 올해도 반도체 기업 중 가장 많은 자본지출을 할 예정이다.

IT시장조사기관 IC인사이츠가 실시한 설문조사에 따르면 삼성전자는 2016년 11억 3000만달러를 투자지출을 하면서 2015년(13억 100만달러) 대비 13% 감소했었다. 올해는 12억5000만달러를 투자함으로써 전년 대비 11%의 성장을 할 것으로 예상된다.

SK하이닉스도 2016년 5억 1880억달러 자본지출을 하면서 전년 대비 14% 삭감했었으나 올해는 16% 증가해 6억달러를 지출할 계획이다. 이처럼 두 기업이 올해 투자 금액을 상향 시킨 이유는 3D낸드의 비중을 강화하려는 전략으로 보여진다.

삼성전자의 메모리 사업의 매출에서 D램과 낸드플래시가 차지하는 비중은 6:4, 하이닉스는 7:3으로 양사는 아직 D램에 편중된 사업구조를 갖추고 있으나 향후 고부가가치 제품인 3D 낸드의 비중을 늘려 수익성을 높일 계획이다.

삼성전자는 올해 중반부터 평택 반도체 공장을 본격적으로 가동할 계획으로, 덩달아 설비시설에 많은 지출을 하게 된다. SK하이닉스도 3D 낸드플래시 생산능력 확대를 위해 청주 산업단지에 올해 8월부터 2019년 6월까지 2조 2000억원을 투자해 반도체 공장 건물과 클린룸을 건설한다고 공식 발표한 바 있다.

반도체 자본지출(CAPEX) 기준으로 상위 11개 기업 중에서 ST마이크로일렉트로닉스(ST), 글로벌파운드리, 인텔 등 3사는 2017년 반도체 지출을 전년 보다 25% 이상 늘릴 것으로 예상된다.

ST는 전년 대비 무려 73%나 지출을 늘려 올해 1억 500만달러를 투자한다. ST 측은 2016년 이후에는 자본 지출을 매출액의 10% 이하로 되돌릴 것으로 보인다고 언급했다.

글로벌파운드리는 33% 늘려 2억달러를 지출할 계획이다. 특히 글로벌파운드리 경우에는 올해의 지출 증가의 거의 대부분을 첨단공정기술 7나노(nm) 개발에 주력하면서 10나노 노드를 건너뛰는 것을 목표로 할 것으로 추정된다. 지출액 기준으로 삼성에 이어 두 번째로 가장 많은 지출을 하는 인텔은 25% 더 지출할 예정이다.

2016년 주요 지출액에서 가장 큰 지출 증가율을 보인 중국 파운드리 업체 SMIC는 2016년 초반에는 자본 지출 예산을 21억 달러로 책정했었으나 11월에는 지출 예산을 26억 달러로 늘려 2015년보다 87% 증가한 지출을 기록했다. SMIC의 제조시설은 95% 이상의 가동률을 유지하고 있는 것으로 알려져 있다.
 
반면, 대만 파운드리 업체 TSMC는 2016년 투자지출을 27% 증가시켰으나 올해는 2% 소폭 삭감할 예정이다.

마이크론은 2016년 인수한 이노테라를 포함하고도 2017년에는 지출을 13% 감소할 것으로 내다봤다. 2016년 약 10억 6000만달러를 지출한 소니는 2017년에 반도체 시장의 주요 투자자 명단에서 탈피할 것으로 예상된다. 이미지센서 사업 증설 관련 지출이 10억 달러를 밑돌 것으로 예상된다.

주요 반도체 기업들 중에서 11개 기업이 올해 각각 10억달러가 넘는 투자지출을 책정했으며, 이는 전세계 반도체의 78 %를 차지할 것으로 전망된다. 참고로 2013년에는 8개 회사가 자본 지출이 10억 달러를 넘은 것과 비교했을 때 시설 및 R&D 투자가 지속적으로 증가하고 있다는 것을 알 수 있다.