산업자원부 기술표준원은 반도체(D램)분야 세계 제1위국이라는 우리나라의 위상에 걸맞게 반도체소자의 초정밀 나노분석방법을 국제표준화기구(ISO)에 제안함으로써 생산량과 더불어 국제표준면에서도 강점을 가질 수 있는 발판을 마련했다. ‘04년 1월 현재 반도체수출은 우리나라 총 수출액(18,999백만달러)의 9.8%를 차지하고 있으며, 총 세계시장(D램분야)의 40% 이상을 차지했다. (현재 삼성전자가 D램 업계에서 세계최초로 70나노미터 D램 공정기술 개발에 성공) 나노분석에 관한 국제표준은 국제표준화기구(ISO) TC201(나노분석) 기술위원회에서 관장하고 있으며 금번 제안한 규격은 엑스선을 이용한 비과피분석방법에 관한 것으로 동 기술위원회의 해당분과위원회(SC7)에서 심의될 예정이다. 본 국제규격 제정안의 작업을 위해 미국, 영국, 일본 등 11개국과의 협의를 거쳐 '04년 10월 제주도에서 개최되는 국제표준화총회에서 정식 작업반(working group)을 구성할 계획이며, 규격안은 현재 삼성종합기술원에서 반도체 등의 제품평가에 실질적으로 적용되고 있는 분석기술에 대한 것으로 5나노미터 이하 두께를 갖는 초집적 반도체용 박막의 비파괴 평가법이 규격화 될 경우 일본, 대만 등을 포함한 선진 반도체 강국에서 적극 수용할 것으로 기대된다. 반도체 소자를 파괴하지 않고 수 옹스트롬(10-10m)의 해상도로 깊이방향에 따른 화학성분 분석이 가능하며 시료로부터의 오염 또한 없으므로 분석효율이 매우 높다. 이 평가방법은 반도체 산업분야에서의 수율 및 분석정확도의 획기적인 향상을 위해 삼성종합기술원에서 수많은 현장시험을 통해 정립시킨 것으로 반도체소자 박막두께 측정 및 성분 변화분석의 용이성을 극대화했다. 이로써 우리나라는 반도체소자 분야의 국제표준을 실질적으로 이끌어 나갈 수 있는 계기를 마련했으며 앞으로도 기술표준원은 반도체 업계와 연계하여 지속적으로 우리나라 원천기술의 국제표준화 작업을 적극적으로 추진할 계획이다. 이미 ‘99년 12월에 우리나라가 제안한 “이온빔을 이용한 반도체소자의 평가방법”에 대한 규격이 4년의 노력 끝에 ‘03년 7월 국제규격으로 최종확정되어 공표된 이후 두번째로 제안하는 것으로, 현재 우리나라는 나노분석을 위한 핵심기술분야인 원자현미경 기술분과위원회의 신설 및 간사국을 수임(’04. 2)한 바 있다.※ ISO : International Organization for Standardization (국제표준화기구)TC : Technical Committee (기술위원회)SC : Sub Committee (분과위원회)
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