인피니언 테크놀로지스는 0.11미크론 공정 기술을 이용해 DRAM 양산을 시작했다고 오늘 발표했다. 이 회사는 새로운 0.11미크론 공정에서 제조된 고집적 256Mbit DRAM 샘플이 인텔로부터 검증을 받았으며 이미 전략적 제휴사에 공급됐다고 덧붙였다. 아울러, 새로운 공정 기술은 인피니언이 기존에 사용하고 있던 양산 공정 기술과 비교해 DRAM 반도체 칩 단위당 공정 비용이 약 30% 절감되며 0.14미크론 DRAM 공정 기술과 비교해 웨이퍼 당 50% 이상의 칩 생산을 증가시킨다고 회사측은 밝혔다.0.11-미크론 공정 기술은 독일 드레스덴 소재의 인피니언 200mm 웨이퍼 공장에서 개발됐으며, 고집적·고속 메모리의 대량생산은 200mm와 300mm 공정 라인에서 본격화될 예정이다. 드레스덴에서 본격적인 양산 준비가 한참 진행되는 동안, 인피니언은 새로운 공정 기술을 미국의 버지니아 리치몬드에 소재한 난야와의 공동 생산 기지인 이노테라 메모리즈를 포함해 인피니언에 소속된 다른 팹과 DRAM 파운드리 제휴업체의 팹에도 이전할 계획이다.인피니언은 0.11미크론 DRAM 기술을 양산 단계에 적용하기 위해 첨단 193nm 리소그래피를 사용했다. 또한 0.11미크론 공정으로 생산되는 모든 DRAM을 납과 할로겐 물질을 사용하지 않는 환경친화적 기술을 기반으로 한다.이 회사는 0.11미크론 공정 기술보다 더욱 더 소형화된 차세대 공정 기술 역시 리소그래피를 이용할 것이며 이미 축적된 자사의 기술 노하우가 차세대 공정 기술 개발에 큰 영향을 미칠 것으로 기대하고 있다. 0.11미크론 기술로 제조된 첫 번째 제품은 PC와 서버에서 사용되고 있는 256Mbit DDR.웹사이트 : www.infineon.com
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