반도체 10나노 시대 오면서 케미칼 소재 중요도 ‘상승’

인테그리스(Entegris)는 케미칼 필터/정제 분석 및 연구개발 시설을 국내 수원에 소재한 한국기술센터(KTC)에 확장하며 한국 생산시설을 아시아 지역의 허브로 자리매김하겠다고 밝혔다.

미국에 본사를 둔 인테그리스는 반도체 및 기타 첨단 산업의 공정과 제조 과정에서 사용되는 정제, 보호, 운송 등 다양한 핵심 제품을 제공하고 있으며 중국, 프랑스, 독일, 이스라엘, 일본, 말레이시아, 싱가포르, 한국, 타이완에 제조, 고객 서비스 시설 또는 연구 시설을 갖추고 있다.

아시아 지역 중 유일하게 제조시설과 연구소를 동시에 갖춘 인테그리스코리아는 원주의 제조시설 및 R&D센터를 비롯해 2014년 장안에 제조시설과 i2M 센터를 오픈했으며 이번에 수원 한국기술센에 케미칼 필터 연구소를 확장했다. 따라서 한국을 아시아의 생산기지국으로 삼아 최근 부상하고 있는 중국 지역까지 물량을 공급하겠다는 계획이다.

▲ 임창환 인테그리스 지사장

임창환 인테그리스코리아 지사장은 “과거 반도체 65나노 공정시절에는 스케일 중심이었으나 14나노, 10나노 등으로 기술이 발전되면서 복잡해진 솔루션을 구현하기 위한 고민과 함께 반도체 소재가 더 중요하게 됐다”며 “인테그리스는 향상된 퍼포먼스, 비용절감, 공정기술 등 3가지 장점을 바탕으로 제조, 운송, 저장, 서브팹, 툴까지 토탈 솔루션을 제공하고 있다”고 설명했다.

인테그리스는 제조 공정에 있어서 리소그래피, 에칭(Etch), 침척, 청결, CMP, 임플란트 등 6대 공정기술과 더불어 팹시설까지 갖추고 있다. 특히 기존 한국기술센터에 추가 확장된 신규 연구소에서는 필터 테스트 장치를 사용해 케미칼 및 용액의 분석 및 재료 특성 분석이 가능해져 첨단 공정에 최적화된 솔루션을 반도체 기업에게 제공할 수 있다.

인테그리스의 대표적인 제품으로는 ‘SDS 가스 운송 시스템’, 드럼 동봉 기술인 ‘센트리 QCIII 퀵 커넥티드 시스템’, 누출을 보호하는 ‘프라임락 PFA 피팅스’, 극한 온도에서도 안전하게 케미컬을 공급하고 잔존량을 최소화시키는 ‘토렌토 X 시리즈 필터’ 등이 있다.

더불어 이 날 인테그리스는 10나노 이하 구리와 텅스텐 공정에 최적화된 post-CMP(화학적 기계적 평탄화 후공정) 클리닝 솔루션에 대한 신제품을 발표했다.

▲ 인테그리스 토탈 제조 시스템.

임창환 지사장은 “최근 최첨단 제품군의 반도체 생산에서 코발트 및 텅스텐과 같은 새로운 물질이 도입됨으로써 발생하는 다양한 문제점을 해결하기 위해 인테그리스는 고기능 필름 또는 새로운 재료에 손상 없이 클리닝 효과가 뛰어난 신규 플래너클린(PlanarClean) 솔루션을 개발했다”고 설명했다.

인테그리스 플래너클린 AG 제품은 금속막의 제로 수준의 부식/결함, 향상된 퀴타임(queue time) 등의 성능 개선을 통해 디바이스의 신뢰성을 높였고 사용량을 기존 post-CMP 클리너 대비 현저히 줄일 수 있어 반도체 제조사에 비용 절감 효과를 제공한다.

임창환 지사장은 “최근 기존에 전혀 사용하지 않았던 소재가 웨이퍼에 사용되면서 신규 소재에 대한 니즈가 커졌고, 이런 소재를 컨트롤하는 기술이 중요해지고 있다. 또 2010년 이후 환경과 안전에 대한 관심이 급증하면서 공장사고를 예방하기 위해 좋은 소재를 선택하는 중요도가 커졌다”며 “인테그리스는 2981개의 기술특허 보유와 높은 기술력을 바탕으로 고객사의 환경 안전 규정을 충족시키는 제품을 공급하겠다”고 밝혔다.

한편, 인테그리스는 1월27일부터 29일까지 코엑스에서 열리는 ‘세미콘 코리아 2016’에 참여한다.

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