ASML, 미국 반도체사에 EUV 노광장비 공급

반도체 장비업체인 네덜란드 ASML은 미국의 주요 반도체 제조사 중 한 곳과 최소 15대의 극자외선 (EUV) 노광장비 공급 계약을 맺었다고 23일 밝혔다.

이번 계약은 늘어나고 있는 반도체 관련 개발 활동 및 차세대 제조 공정의 시범 생산을 지원하고자 체결된 것으로, 해당 고객사는 새로 도입하는 시스템을 미래 공정 기술을 위한 멀티플 프로세싱 단계에 사용할 것으로 알려졌다. 전

체 수량 중 먼저 2대의 EUV 노광 시스템 (NXE:3350B)이 올 연말 이전에 고객사 생산라인에 도입돼 기존에 설치된 EUV 시스템과 함께 반도체 제조 공정에 사용될 예정이다.

극자외선 (EUV, Extreme Ultraviolet) 노광은 반도체 산업 발전시키는데 선도적인 역할을 하는 새로운 패터닝 기술로, 수율 (Yield)과 사이클 타임 (Cycle time) 측면에서 장점을 가진 가장 최첨단의 칩 제조 공정을 더욱 단순화한다. 

이를 통해 반도체 칩 안에 더욱 많은 트랜지스터를 담고 기능 대비 가격은 낮추며 에너지 효율을 향상시킴으로써 반도체 업계가 향후 10년간 무어의 법칙을 계속해서 실현해 나갈 수 있도록 한다.

피터 베닝크 (Peter Wennink) ASML CEO는 “이제 EUV 노광 시스템은 양산 과정 도입 단계에 들어섰으며, 이러한 반도체 산업의 새로운 혁신을 발판 삼아 EUV의 장기적 계획과 에코시스템에 대한 준비도 순조롭게 진행되고 있다.”라고 설명했다. 또한, “EUV 노광 시스템에 대한 ASML의 노력은 EUV의 계획 범주를 넓히고 EUV에 대한 자신감을 증진시키는 데 큰 역할을 하고 있다.”라고 덧붙였다.