EV 그룹(이하 EVG)이 NIL 포토닉스(Photonics) 역량 센터를 설립했다.

NIL 포토닉스 역량 센터는 현재 나노 임프린트 리소그래피 분야에서 EVG의 제품군을 활용하는 다양한 고객을 지원하기 위해 설립돼 포토닉스 분야에서 새롭고 향상된 제품 개발 및 응용 분야의 활성화가 기대되고 있다.

나노 임프린트를 이용한 포토닉스 구조는 발광다이오드(LED)와 광전지(PV) 셀 분야의 광 추출 및 광 포획 성능을 향상시킬 수 있으며 레이저 다이오드 분야에도 응용 될 수 있다. 이러한 포토닉스 구조는 소자의 성능을 향상시킨다.

NIL 포토닉스 역량 센터는 전담 공정팀과 초기 양산 서비스를 지원할 수 있는 최첨단 클린룸을 오스트리아의 EVG 본사뿐 아니라 북미와 일본에 있는 자회사에도 운영하고 있다.

▲ EV 그룹이 나노 임프린트 리소그래피 분야에서 EVG의 제품군을 활용하는 고객을 위해 NIL 포토닉스 역량 센터를 설립했다.
마커스 뷤플링거(Markus Wimplinger) EV 그룹 기술 개발 및 IP 이사는 “나노 임프린트 기술은 기존의 리소그래피 설계 및 제조 시간을 대폭 단축 할 수 있고, 포토닉스 구조의 모든 제품 개발이 가능하다”며 “광학 리소그래피용 이빔(e-beam)장치 및 스텝퍼(Stepper) 시스템과 같은 종래의 기술에 비해 생산 비용의 절감을 구현 할 수도 있다”고 말했다.

이번 NIL 포토닉스 역량 센터 설립을 통해 EV그룹은 고객에게 진보된 나노 임프린트 시스템을 제공할 수 있게 됐다.


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