ASML(www.asml.com)이 지난 24일 오후2시(영국시각) 런던에서 진행된 투자자의 날 행사에 참여해 자사의 비전과 기술 방향 등을 발표했다.

이 날 행사에서 ASML은 2020년까지 100억 유로 규모의 순 매출과 세 배의 주당순이익을 달성하겠다는 비전을 내보였다. 앞으로도 반도체 업계가 성능과 크기, 전력소비 부문에서 향상된 트랜지스터를 요구할 것이며, 이러한 요구가 다가오는 10년 간 무어의 법칙이 산업을 이끌게 함으로써 그 과정에서 노광기술이 핵심 조력자가 될 것이라는 분석에 따른 것이다.

ASML은 자사의 주요기술 발전 방향에 대해서도 설명했다. ASML은 오는 2016년부터 EUV장비의 비용대비효과가 개선돼 반도체생산과정이 간결해지고 피처사이즈가 줄어들 것이며, 이를 통해 모든 타입의 반도체 생산에 적용할 수 있을 것이라고 내다봤다.

또한 원자외선 (Deep-UV) 이머전 시스템이 멀티 패터닝에 사용되고, ASML의 Holistic Lithography 제품들을 통해 전체 노광 공정이 더욱 향상된 성능으로 오차를 줄이며 생산량을 늘릴 것으로 기대했다. 


한편 이번 행사에서 ASML은 2대의 EUV 노광장비를 TSMC에 공급할 것이라는 수주 사실도 함께 공개했다.


회원가입 후 이용바랍니다.
개의 댓글
0 / 400
댓글 정렬
BEST댓글
BEST 댓글 답글과 추천수를 합산하여 자동으로 노출됩니다.
댓글삭제
삭제한 댓글은 다시 복구할 수 없습니다.
그래도 삭제하시겠습니까?
댓글수정
댓글 수정은 작성 후 1분내에만 가능합니다.
/ 400
내 댓글 모음
저작권자 © 테크월드뉴스 무단전재 및 재배포 금지