인하대 최리노 교수, 삼성미래기술육성사업 지정테마 연구지원 과제 선정
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인하대 최리노 교수, 삼성미래기술육성사업 지정테마 연구지원 과제 선정
  • 조명의 기자
  • 승인 2020.07.30 18:21
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[테크월드=조명의 기자]

인하대학교 신소재공학과 최리노 교수가 비정질상위 단결정 반도체 층을 만들어내는 기술 개발을 제안해, 삼성미래기술육성사업 지정테마 연구지원 과제 공모전‘혁신적인 반도체 구조․구현 기술 분야’에 선정됐다. 

개발한 기술을 이용해 반도체 소자를 만드는 방법 예시
개발한 기술을 이용해 반도체 소자를 만드는 방법 예시

최 교수가 제안한 연구과제는 비정질상위 결정방향 제어가 가능한 저온 단결정 활성층 형성 기술로, 이는 반도체 절연막으로 사용하는 비정질 산화막 위에 또 다른 반도체 층을 단결정으로 쌓아올릴 수 있는 기술이다. 

비정질 산화막은 전자회로에서 전기를 통하지 않게 만드는 절연재료로 사용하는 실리콘 산화막을 말한다. 실리콘을 고온의 산소나 수중기 중에 두면 생성된다. 반도체 칩을 만들기 위해서는 중간에 반드시 삽입해야 하지만 이전에는 이 위에 단결정 반도체 층을 형성하는 것은 불가능한 것으로 여겨졌다. 

이 기술 개발이 성공하면, 반도체 소자를 위로 쌓아 올리는 3차원 적층 반도체 소자 집적, SOI(Silicon-On-Insulator) 웨이퍼 제작, 규소 단결정 박막 태양전지 등 다양한 분야에서 획기적인 발전이 가능하다. 

이번 연구 과제에서는 불규칙한 비정질 산화막 위에 결정 전체가 규칙적인 단결정 실리콘 반도체를 만들 수 없다는 기술상 한계를 극복하기 위해 비정질 물질 위에서도 결정을 형성하는데 우수한 성질을 가진 씨앗 물질을 이용한다. 비정질 산화막 위에 이 씨앗 물질의 결정방향을 제어해 증착한 후 실리콘이나 게르마늄 같은 반도체를 단결정으로 기르는 방법을 연구한다. 

최리노 교수는“이번 기술 개발로 기존 공정과 적합성을 유지하면서도 반도체 산업에 혁신적인 영향을 주는 반도체 소자 제작을 구현할 수 있을 것으로 기대한다”고 말했다. 
 



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